这是科学：在大规模三维电子光刻

今日电子光刻不会有人感到惊讶，它在微电子预测一个非常成功的未来。即使 RUSNANO计划采购电子束光刻映射。什么材料？ - 这将是未来的光致抗蚀剂的基础

Ионно-лучевая光刻，在广义的意义上说，迟早要取代传统的<一个href="https://ru.wikipedia.org/wiki/%D0%A4%D0%BE%D1%82%D0%BE%D0%BB%D0%B8%D1%82%D0%BE%D0%B3%D1%80%D0%B0%D1%84%D0%B8%D1%8F">фотолитографии,作为具有无可比拟的分辨率，并且通过使用粒子（离子或电子）的产生图案的精确度具有非常短的波长（小于1埃或0.1纳米）。此外，这种方法是一种直接创作模式和方案不要求昂贵的掩模的发展（其价格可以达到到每人数十万美元一>），如在光刻的情况下。

例如，在光刻工艺在本方案中，在离子束光刻的情况下，我们可以安全地排除在掩模上的阶段数3方法：

但在资本主义一切的世界是由钱决定，包括设备和原材料的成本 - 当然光致抗蚀剂，它是大量消耗，作为最普通的芯片可以包含各种各样的10层。实际上它光致抗蚀剂是负责与该图案将被再现的衬底上的精确度。

于是，一群中国科学家从加拿大提出用非常便宜的聚苯乙烯作为电子束光刻的光刻胶，使您可以创建3D物体高达1.5微米的高度与厚度非常薄（小于几百纳米）的方法。

通常在电子束光刻采用高分子聚二甲基硅氧烷（ PDMS ），但科学家们已经找到了一种方法以一个更便宜的替代<一href="https://ru.wikipedia.org/wiki/%D0%9F%D0%BE%D0%BB%D0%B8%D1%81%D1%82%D0%B8%D1%80%D0%BE%D0%BB">полистирол （约2倍的低市场价值）。这增大的灵敏度，并与它一起的方法，作为一个整体的整体性能，因为它需要较少的创建一个单一的“像素»时间。

所提出的方法的本质在于，聚苯乙烯被施加到基底通过热蒸发，然后暴露于电子束后，暴露区域可以容易地溶解于二甲苯的混合物的事实。其结果是，腔体形成，其随后可以填充不同的材料：铝（用于销），二氧化硅（用于创建波导或绝缘表面）等

通过电子束光刻得到的聚苯乙烯换算的图案的例子 i>的

此外，如果需要的话，可以同时“漆”弯曲表面上，甚至创建波导这样的表面方法：

随着电子束的帮助下，可以几乎任何表面上印刷，在创建复杂的图案 i>的

因此，该组属性：低成本，低剂量或短曝光时间，重合创建曲面上的图案的能力 - 实际上使在电子工业的光刻新兴市场聚苯乙烯需求

原创文章ACSNano（DOI：10.1021 / nn4064659） I>

资料来源： habrahabr.ru/post/236181/